半導體溫控裝置-循環(huán)風(fēng)控溫系統

半導體溫控裝置-循環(huán)風(fēng)控溫系統

半導體溫控裝置-循環(huán)風(fēng)控溫系統

　　循環(huán)風(fēng)控溫裝置在半導體設備高低溫測試中能夠為用戶(hù)提供一個(gè)受控、恒溫均勻的溫控環(huán)境，同時(shí)具備直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的功能，實(shí)現全量程范圍內的溫度準確控制。

　　一、循環(huán)風(fēng)控溫裝置技術(shù)參數

　　在半導體高低溫測試中，循環(huán)風(fēng)控溫裝置通過(guò)準確的溫度循環(huán)和沖擊測試，驗證設備在嚴苛環(huán)境下的可靠性。主流設備與技術(shù)參數如下：

　　AI系列循環(huán)風(fēng)裝置：溫度范圍：-105℃~+125℃；精度：±0.5℃；模塊化設計，支持備用機組熱切換，自動(dòng)化霜、獨立循環(huán)風(fēng)道，適用于多場(chǎng)景快速構建高低溫環(huán)境

　　高低溫沖擊測試機（AES系列）：溫度范圍：-115℃~+225℃；精度：±0.5℃；射流式氣流設計，模擬嚴苛溫度沖擊，評估材料熱脹冷縮應力及電性能穩定性

　　快速溫變控溫卡盤(pán)（MD系列）：溫度范圍：-75℃~+225℃，提供開(kāi)放測試平臺，支持RF器件及功率模塊在快速溫變下的失效分析

　　二、循環(huán)風(fēng)控溫裝置測試場(chǎng)景

　　1、技術(shù)優(yōu)勢：

　　模塊化擴展：AI系列設備支持積木式拼接，可快速構建-65℃~+125℃恒溫箱或高低溫沖擊室，減少部署周期。

　　自適應PID控制：結合傳感器實(shí)時(shí)反饋，溫度波動(dòng)控制在±0.,5℃以?xún)?，滿(mǎn)足半導體封裝工藝對溫度均勻性的嚴苛要求。

　　多介質(zhì)兼容性：支持氮氣、氬氣等惰性氣體環(huán)境測試，避免樣品氧化，適用于光電子器件敏感性測試。

　　2、典型測試場(chǎng)景：

　　芯片可靠性驗證：通過(guò)-40℃~120℃快速溫變循環(huán)（速率>5℃/min），檢測焊點(diǎn)開(kāi)裂、封裝材料分層等失效模式。

　　材料特性分析：在-80℃~+200℃范圍內，評估陶瓷基板、導熱膠等材料熱膨脹系數匹配性，優(yōu)化散熱設計。

　　工藝參數調優(yōu)：模擬晶圓測試環(huán)節的溫度波動(dòng)，驗證探針卡接觸穩定性及測試機抗干擾能力。